半光沢ニッケルめっきとは？ | めっき技術レポート

二層ニッケルめっき、三層ニッケルめっきにおいて
下地ニッケルめっきとして用いられています。

半光沢ニッケルめっきに求めれる条件は、めっき皮膜中の
硫黄を出来るだけ少なくすること（一般に0.003%程度）
めっき皮膜の内部応力が小さいこと、外観が半光沢で、
平滑化作用（レベリング）があることなどです。

めっき浴はワット浴を基本としますが、光沢ニッケル浴
よりも塩化ニッケルの濃度を低くして用います。
濃度が高いと高電流密度部分が無光沢になり、めっき皮膜の
内部応力が高くなります。

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