真空蒸着とは、真空中で物質を加熱蒸発し、基板上に薄膜を形成する
成膜法です。

真空中で金属を加熱すると、金属が蒸発します。その蒸発分子を、蒸気温度
より低温の基材に付着させると、表面で蒸気が凝縮し、薄膜を形成します。
この薄膜はきわめて薄く、通常0.05〜0.1μｍ程度です。
表面の光沢は、基材の粗さや蒸着時の雰囲気で異なります。

vacuum evaporation

引用元：JIS 金属表面処理　2023

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