物理蒸着とは、高温加熱、スパッタリングなどの物理的方法で
物質を蒸発し、基板に凝縮させ、薄膜を形成する方法のことで
略称：PVDです。

参考：真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング
などの総称。

physical vapor deposition

引用元：JIS 金属表面処理　2023

お問合せのページはこちらから