接触めっき法とは、析出する金属の化合物を含む溶液中で、
下地を他の金属と接触するように浸せきし、下地上に金属を
析出させる方法です。

接触めっき法は、金属のイオン化傾向を利用した方法です。
被めっき物と接するめっきしたい金属は、被めっき物よりも
イオン化傾向が大きいため、被めっき物から電子を受け取り、
金属イオンが被めっき物表面に析出してめっき層を形成します。

contact plating

引用元：JIS 金属表面処理　2023

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