■7028　反応性イオンエッチングとは？

■7028　反応性イオンエッチングとは？

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★基板（2001参照）を高周波電極とし、反応性ガスの
プラズマ（1028参照）を用い、セルフバイアス（3066
参照）効果に伴う基板へのイオン入射による化学反応
（4002参照）を利用してエッチング（7016参照）を
行うこと。
略称：RIE
参考：基板は、中性活動種と反応ガスイオンとの相乗
効果でエッチングされる。

reactive ion etching

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