■7030　反応性イオンビームエッチングとは？

■7030　反応性イオンビームエッチングとは？

------------------------------------------------

★反応性ガスのプラズマ（1028参照）をイオン源（10
45参照）で発生させ、反応性ガスイオン及び中性活性
種をイオン源とは独立した室に置いた基板（2001参照）
に照射し、エッチング（7016参照）を行うこと。
略称：RIBE。

reactive ion beam etching

▼お問合せのページは、こちらから。