■8006　基板加熱とは？

■8006　基板加熱とは？

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★膜の結晶化、基板表面での反応の促進、密着化の向上
などを目的として、基板（2001参照）を加熱すること。
参考：加熱方法によって、ヒータ加熱、ランプ加熱、
レーザー加熱、高周波加熱、電子線加熱などがある。

substrate heating

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