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FAQ
スパッタ法とは、真空中でイオンをターゲットに衝突 させ、弾き飛ばされた粒子を製品表面に堆積させる 真空成膜技術です。
真空中で放電を起こしてアルゴンなどのガスをプラズマ 化し、高速でぶつかる物理的エネルギーを利用するため、 融点の高い材料でも均一な薄膜を作ることが可能です。
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