CVDとは？

CVD（化学蒸着）とは、ガス状の原料を加熱した炉内に
送り込み、化学反応によって基板表面に薄膜を形成する
技術です。

PVDのような物理的な付着とは異なり、気相での化学反応
を利用するため、複雑な形状の凹凸部や細孔の内部まで、
極めて均一で緻密な膜を成膜できるのが最大の特徴です。