真空、プラズマ環境の厳しい条件でニッケルの含有量が高いめっき処理とは。

真空、プラズマ環境の厳しい条件で使用します。
めっきの硬度を高く、尚且つニッケルの含有量を高く
したいです。

どのような処理が宜しいでしょうか？

無電解ニッケル(Ni-P合金めっき)+熱処理

にて、検討をさせて頂いております。
上記皮膜には、Pが含有しますので、
こちらの含有量を最小限にしたタイプのもの
｢P低含有タイプ｣を選定させて頂こうと考えております。

以下の点を確認させて下さいませ。

・Pの使用は製品の用途上、問題ございませんでしょうか？

・めっき後の熱処理は、硬度上昇を狙ったものですが、
　具体的な皮膜硬度の狙い値はございますでしょうか？

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